组分 配比/%
1.2—二氯—1,1—二氟乙烷 0.0
1.1.2-三氯三氟乙烷 0.0
产品特点
该清洗剂用于半导体装置和电路生产中清洗，具有去污力好和不易燃的特点。
（注意：以上数据组分及配比只做为探讨和交流，不代表我司产品配方依据和产品参数数据。请勿依据该配方盲目尝试配制。）
组分 配比/%
1.2—二氯—1,1—二氟乙烷 0.0
1.1.2-三氯三氟乙烷 0.0
产品特点
该清洗剂用于半导体装置和电路生产中清洗，具有去污力好和不易燃的特点。
（注意：以上数据组分及配比只做为探讨和交流，不代表我司产品配方依据和产品参数数据。请勿依据该配方盲目尝试配制。）